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Caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma

García García, Luis Alpidio (2001) Caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma. Maestría thesis, Universidad Nacional de Colombia - Sede Manizales.

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Resumen

El desarrollo de este trabajo, consiste básicamente en la caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma; este sistema consta de una cámara cilíndrica en acero inoxidable la cual contiene en su interior dos electrodos (ánodo-cátodo). Al generar un arco pulsado entre ellos, se presenta un vigoroso vapor metálico utilizado para producir una capa muy delgada (recubrimiento) sobre un substrato. En este trabajo se calcularon parámetros básicos como temperatura electrónica (Te), densidad electrónica (ne), potencial del plasma en la región interelectródica, utilizando la técnica de sonda eléctrica doble. Análisis de las muestras y del material catódico utilizando microscopía de fuerza atómica y un microscopio electrónico permitió determinar los tipos de spots , modos de transición del arco e identificar macropartículas que son emitidas en estado liquido por el material catódico y que generan variaciones en lo parámetros del plasma.

Tipo de documento:Tesis/trabajos de grado - Thesis (Maestría)
Colaborador / Asesor:Pulzara Mora, Álvaro and Devia Cubillos, Alfonso
Palabras clave:Física del plasma, Descargas de arco en vacío, Sondas electrostáticas, Diagnóstico de plasma, Arcos (Electricidad), Sondas de plasma, Películas delgadas
Temática:5 Ciencias naturales y matemáticas / Science > 53 Física / Physics
6 Tecnología (ciencias aplicadas) / Technology > 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering
Unidad administrativa:Sede Manizales > Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
Código ID:3491
Enviado por : Biblioteca Digital Universidad Nacional de Colombia - Sede Manizales
Enviado el día :06 May 2011 20:00
Ultima modificación:07 May 2011 18:07
Ultima modificación:07 May 2011 18:07
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